3月23日，资深科学家牛枫在材料学院二楼报告厅为材院的研究生学子们带来了一场主题为“原子层沉积技术在纳米功能材科及二维材料中的新兴应用”的学术报告。材料学院副院长何云斌出席并主持了此次讲座。

牛枫，博士，美国超真空技术公司(SVTA) 任资深科学家，曾于1994年获得中英友好奖学金，1998年获英国材料协会最佳论文奖。获得并主持过十数项美国国家级 (能源部, 航天局, 国防部, 自然科学基金会等)研发项目，并且曾获八项美国国家专利。是英国皇家电镜学会(fellow),美国材料研究会（MRS）, 冶金,矿业,材料学会（TMS）等会员。

讲座伊始，牛博士就近十几年出现的原子层沉积技术(ALD）在纳米功能材料合成及应用领域为同学们分析了（ALD)具有的独特而巨大的前景。牛博士就原子层积技术在高介电氧化物晶体管、光子材料、能源材料（光伏材料，固体燃料电池,三维锂电池,超级电容）、 可弯曲显示屏、紫外探测器、抗锈、环保、生物等方面的应用进行了讲解和分析。其中，牛博士特别强调了近几年来在二维（graphene, MoS2）新材料的合成及应用上有突破性进展。他表示，ALD利用某些有机金属化合物在表面形成自我饱和反应的特性，拥有原子层厚度精确控制，随形性和低温沉积等特性，对合成新纳米功能材料包括二维材料及复杂物体表面改性，具有其他成熟镀薄沉积技术无法替代的优势。会议尾声，牛博士就自己在美国近十年在 ALD 合成工艺，材料，应用和沉积设备的最新研发成果以及自己的经历、经验对同学们分享。

材料学院研究生会主席童慧芬表示，牛博士的这次讲座让我们了解了原子层沉积技术(ALD）的各个研究领域，让我们增长了见识。